在半導體制造、LED生產(chǎn)、光伏產(chǎn)業(yè)以及平板顯示等高科技領(lǐng)域，電子氣體純度是決定最終產(chǎn)品性能和生產(chǎn)效率的關(guān)鍵因素。LDetek工業(yè)氣相色譜系統(tǒng)提供高靈敏度、高穩(wěn)定性的實時在線監(jiān)測解決方案，確保您的工藝氣體純凈無瑕，從而優(yōu)化生產(chǎn)工藝并顯著提升產(chǎn)品質(zhì)量。
MultiDetek3 是一款受歡迎的緊湊型模塊化過程工業(yè)氣相色譜儀，具有雙進樣氣入口和在線模塊，可以同時對微量水分、氧以及微量雜質(zhì)進行流分析。
電子氣體中常見的污染物。它們會導致半導體晶圓在高溫工藝中發(fā)生氧化反應，腐蝕敏感材料，嚴重影響薄膜生長質(zhì)量、器件性能和合格率。例如，在ALD/CVD工藝中，痕量氧和水分需要嚴格控制在0.1 ppm甚至ppb以下，避免缺陷。
包括甲烷、乙烷，丙烷以及苯系物等有機雜質(zhì)。這些雜質(zhì)在半導體化學氣相沉積和蝕刻等工藝中，可能在晶圓表面形成碳膜殘留，導致產(chǎn)品電氣性能異常、短路或開路，甚至影響后續(xù)工藝的兼容性。
如鎳羰基、鐵羰基等，是極微量的金屬污染物。即使是ppb級的濃度，也可能在半導體制造中沉積在晶圓表面，影響金屬互連線的電阻率、可靠性，甚至導致器件失效。對這些雜質(zhì)的精確控制是確保過程節(jié)點良率的關(guān)鍵。
MultiDetek3具有0.1至1000ppb級別的低痕量雜質(zhì)檢測能力，靈敏度高，可精準識別水、氧、一氧化碳、二氧化碳、甲烷、一氧化二氮，總碳氫化合物等多種關(guān)鍵雜質(zhì)成分。因此可以顯著減少因氣體不純導致的晶圓報廢率。
LDetek系統(tǒng)可穩(wěn)定監(jiān)測電子氣體純度高至8個9（99.999999%），檢測下限可達0.1ppb，確保滿足嚴苛的半導體制造要求，減少氣體不純帶來的危害。
MultiDetek3系統(tǒng)可在5分鐘內(nèi)完成一個分析循環(huán)，實現(xiàn)對氣體質(zhì)量的快速檢測和異常預警，平均重復性精度優(yōu)于±2%，有助于提升整體凈化效率。
通過精準控制氣體純度，有效減少原材料浪費和不良品率，幫助客戶實現(xiàn)高達30%的運用成本節(jié)約。系統(tǒng)正常運行時間高達99.5%，提高生產(chǎn)效率。
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